多晶硅是用工业硅通过化学、物理途径提纯制得，多晶硅主要用于生产单晶硅和卫星太阳能电池。单晶硅即硅半导体是多晶硅的衍生产品，是制造继承电路和电子元件的优质材料，被广泛应用于电子工业中。

 

还原炉沉积多晶硅是间歇操作，一个运行周期内，硅棒不断长大，一个运行周期结束后打开钟罩收割硅棒。但在运行期内，基盘及钟罩表面均会产生一层土黄色粉末，其主要成分是无定形硅。在收割硅棒后，需要进行基盘和钟罩的清理，再装硅芯进行下一个周期的化学气相沉积。

 

 

还原炉钟罩污染物易造成内表面热量反射减少，使生产能耗增加；电极周围污染物降低了点击的绝缘而导致运行过程中接地故障、倒棒等生产事故。而用于电子行业的多晶硅对产品质量纯净度的控制要求更高，

 

随着我国半导体工业发展，对多晶硅纯度要求越来越高，还原炉沉积环境的洁净度就显得特别关键，任何颗粒性杂质、油脂等物质余留在炉内，都会对产品质量造成影响。那么，如何清理能方便快捷，同时效果更佳？

 

多晶硅还原炉清洗系统始于2009年，国内第一家研发设计制造并获得实用新型专利是bat365中文官方网站，该公司多晶硅还原炉钟罩清洗系统覆盖了国内多家多晶硅生产企业。早期有高压清洗、化学溶剂低压清洗、机械抛光等，但大多?用碱液中压清洗，这些清洗方式不仅不能将钟罩清洗干净，还会损伤表面镀银的还原炉钟罩，为攻克这一难题，一款全新的用于电子级的多晶硅还原炉钟罩清洗系统应运而生。

 

 

1、多晶硅还原炉钟罩清洗系统以水为动力，以水力自驱动三维洗罐器为喷头，形成360° 3D形式的网状喷射来完成炉筒内部表面的水力扫射。

 

2、采用可以旋转和升降的清洗吹干执行机构，根据还原炉每个视孔镜相对原点的相对位置进行准确定位。可自动切换不同清洗液及吹干，通过控制系统可对清洗、吹干时间等进行调整。清洗时只需一键操作即可，操作简单方便。

 

3、根据还原炉底部法兰的结构特设计升级后的清洗工作台，不仅可以满足对内壁和视孔镜的清洗，同时也满足了底部法兰的清洗。可实现对法兰内边缘的清洗，保证整个法兰底部都被清洗液覆盖，并清洗、吹干。

 

4、在整个还原炉的清洗过程中，清洗、干燥中筒内形成微负压状态，防止清洗外溢，同时将底座与筒体下法兰处的污染物等一并吹扫，通过排污管排出，从而保证了整个过程不会对洁净区造成污染。

 

 

经过实际应用，多晶硅还原炉清洗系统整套系统可实现全自动化清洗操作，在一个工作平台上，一次吊装可依次实现自动清洗烘干全部功能，完全实现无死角清洗，同时具有完善的联锁和保护功能。