多晶硅生产设备清洗的意义

多晶硅按不同的用途可分为太阳能级多晶硅和电子级多晶硅两类。太阳能级多晶硅的纯度一般在5～7N，主要杂质为Fe、Cr、Ni、Cu、Zn 等，金属杂质总含量≤0.2(太阳能三级品要求)。电子级多晶硅一般含Si＞99.9999%以上，超高纯达到99.9999999%～99.999999999%，即9～11N，其导电性为10- 4～1010Ω·cm，碳浓度＜2×1016at·cm- 3。

油脂、水分、氯离子残留、金属氧化物、氯化物、灰尘及其他杂质，对多晶硅的纯度影响极大。在多晶硅设备制造、安装和多晶硅生产过程中清洗是十分重要的部分，要按多晶硅生产工艺，对不同洁净度要求、不同材质的设备采用不同的清洗方法。'
 
多晶硅设备的清洗的不同阶段：

1、设备制造阶段的清洗

金属设备及管道、零件需要在除漆前将表面的氧化皮和铁锈除掉，设备内部的油脂、轧制鳞片、锈皮等也需要进行清洗。

2、多晶硅设备安装阶段的清洁

由于工艺管道输送的介质特性及产品纯度要求，对管道的焊接质量及内部清洁、吹扫试压均有较高要求，对设备进场验收、检验及安装、内部处理也有较高要求，因此设备制造结束后的清洗处理至关重要。在装置进行试生产前期，系统注入四氯化硅进行循环清洗约2～3个月，时间的长短取决于设备前期清洗情况。

3、多晶硅设备生产期间的清洗

还原炉和氢化炉是改良西门子法生产多晶硅的核心设备，其运行好坏直接影响多晶硅质量及生产成本。多晶硅生产对还原炉的沉积环境的洁净度要求特别关键，任何颗粒性杂质、油脂等物质余留在炉内，都会对产品质量造成影响。bat365中文官方网站经过研发设计并制造出了多晶硅自动化还原炉钟罩清洗系统，可以完全将多晶硅还原炉钟罩清洗干净，满足生产需求。

bat365中文官方网站电子级多晶硅还原炉钟罩清洗系统包括低压热水清洗动力装置、三维洗罐器、旋转和升降执行机构、清洗工作台、万级净化干燥系统、循环过滤系统、控制装置、微负压系统、清洗工作台、电气控制系统等，系统实现了钟罩的全自动清洗和烘干操作。
 
电子级多晶硅还原炉钟罩自动清洗系统特点：以水力自驱动三维洗罐器为喷头，形成360° 3D形式的网状喷射来完成炉筒内部表面的水力扫射。配以旋转和升降的清洗吹干执行机构，准确定位。操作简单方便，系统控制，清洗、吹干自行调整。不仅可以满足对内壁和视孔镜的清洗，同时也满足了底部法兰的清洗。

在整个还原炉的清洗过程中，清洗、干燥中筒内形成微负压状态，防止清洗外溢，同时将底座与筒体下法兰处的污染物等一并吹扫，通过排污管排出，从而保证了整个过程不会对洁净区造成污染。

生产多晶硅的工艺复杂，设备清洗是可以降低能耗保证多晶硅产品质量的。多晶硅生产企业对设备须从选型、选材、清洗等方面进行合理、科学的管理，应用现代技术，进行全程清洗，以充分发挥设备功效，为安全、高效生产创造条件。